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磁控溅射卷绕镀膜技术!

2021-06-22 10:23:52

磁控溅射卷绕镀膜是采用磁控溅射(直流、中频、射频)的方法把各种金属、合金、化合物、陶瓷等材料沉积到柔性基材上,进行单层或多层镀膜。磁控溅射镀膜仪厂家带你了解更多!

磁控溅射卷绕镀膜技术由于覆盖领域广泛,虽然比蒸发卷绕镀膜技术起步晚,但发展极为迅速,在未来的高科技领域和环保节能领域将大有可为。

磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞。

磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电场交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。

JGP-560型双室磁控溅射系统

磁控反应溅射绝缘体看似容易,而实际操作困难。主要问题是反应不光发生在零件表面,也发生在阳极,真空腔体表面以及靶源表面,从而引起灭火,靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术,很好的解决了这个问题。其原理是一对靶源互相为阴阳极,从而消除阳极表面氧化或氮化。

磁控溅射除上述已被大量应用的领域,还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用。




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