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溅射镀膜技术

2022-02-18 09:26:32

溅射镀膜技术

薄膜是一种特殊的物质形态,由于其在厚度这一特定方向上尺寸很小,只是微观可测的量,而且在厚度方向上由于表面、界面的存在,使物质连续性发生中断,由此使得薄膜材料产生了与块状材料不同的独特性能。薄膜的制备方法很多,如气相生长法、液相生长法(或气、液相外延法)、氧化法、扩散与涂布法、电镀法等等,而每一种制膜方法中又可分为若干种方法。薄膜技术涉及的范围很广,它包括以物理气相沉积和化学气相沉积为代表的成膜技术,以离子束刻蚀为代表的微细加工技术,成膜、刻蚀过程的监控技术,薄膜分析、评价与检测技术等等。现在薄膜技术在电子元器件、集成光学、电子技术、红外技术、激光技术以及航天技术和光学仪器等各个领域都得到了广泛的应用,它们不仅成为一间独立的应用技术,而且成为材料表面改性和提高某些工艺水平的重要手段。

溅射是薄膜淀积到基板上的主要方法。溅射镀膜是指在真空室中,利用荷能粒子轰击镀料表面,使被轰击出的粒子在基片上沉积的技术。

一.溅射工艺原理

溅射镀膜有两类:离子束溅射和气体放电溅射

  1. 离子束溅射:在真空室中,利用离子束轰击靶表面,使溅射出的粒子在基片表面成膜。


CKG-60三靶共溅薄膜制备


特点:

①离子束由特制的离子源产生

②离子源结构复杂,价格昂贵

③用于分析技术和制取特殊薄膜

2. 气体放电溅射:利用低压气体放电现象,产生等离子体,产生的正离子,被电场加速为高能粒子,撞击固体(靶)表面进行能量和动量交换后,将被轰击固体表面的原子或分子溅射出来,沉积在衬底材料上成膜的过程。

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